中國半導體機會來瞭!關鍵設備迎來重大突破,打破美企壟斷局面

關鍵設備迎來重大突破

半導體芯片的研發是一項很復雜的工作,不僅需要技術的支持,還離不開各種關鍵設備,二者缺一不可。在技術層面,其實國內並不落後於國外,像華為海思這樣優秀的國產巨頭也不在少數;但是在相關設備方面,國內與國外相比,就存在一定的差距瞭。

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其中最典型的例子就是光刻機,作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機對整個半導體產業鏈而言,都有著重要的作用。而且光刻機的精度與芯片的先進程度是掛鉤的,隻有高端的光刻機,才能生產出先進制程的芯片。

但可惜的是,截至目前全球范圍內隻有來自於荷蘭的ASML公司能夠造出高端光刻機,其它廠商都不具備這種能力。雖然國內也有一傢專門研發光刻機的公司,名字叫做上海微電子,但是其產品的精度與ASML相差甚遠,根本滿足不瞭先進芯片的生產要求。

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因此,很多國產半導體公司都想要與ASML建立合作關系,從而進口到幾臺高端的光刻機。然而受米國規則和相關協議的影響,ASML最多隻能向中國企業出口中低端的光刻機,高端產品處於管制之中。

這樣一來,就造成瞭國內高端光刻機數量嚴重不足的情況,直接導致瞭國產芯片遲遲無法取得太大的進展。就連華為創始人任正非都曾表示:海思雖然能設計出先進的芯片,但是以國內的基礎工業水平根本造不出來,這就是缺少高端光刻機帶來的後果。

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為此,從去年下半年開始,國內就加大瞭對光刻機研發工作的投入力度,包括華為、中科院在內的公司或機構,也都宣佈瞭入局光刻機的決定。可以預料的是,隻要國內堅持自主研發,將來一定會收獲回報。

而除瞭光刻機之外,國內在其它半導體設備方面也有需要攻克的地方,這些都是國產技術不得不面對的問題。不過,根據最新消息顯示,國內有一關鍵設備迎來重大突破,成功地打破瞭美企壟斷局面。

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這項設備的名字叫做離子註入機,雖然知名度和重要性都比不上光刻機,但是在芯片生產過程中,同樣扮演瞭一個不可或缺的角色。顧名思義,離子註入機的主要作用就是利表面改性技術,讓芯片發生一系列物理和化學變化,朝著人們需要的方向塑形。

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之前,在全球離子註入機市場,美企占據瞭接近壟斷的地位,每年都會拿走70%以上的份額,而我們國內則對它們存在一定的依賴。但是現在情況不一樣瞭,日前中國電子科技集團正式宣佈,離子註入機已經實現瞭自主化生產,並且精度達到瞭28nm。

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中國半導體機會來瞭

也就是說,在佈局光刻機的同時,我們國內又攻克瞭一項關鍵設備,離子註入機的突破將為國產芯片帶來新的希望。因此,對於國內接連不斷傳來的好消息,很多國人都表示:中國半導體機會來瞭!

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雖然在芯片制造領域,目前國產技術還無法自食其力,仍然離不開國外的支持,但這隻是一個開始,隻要國內繼續突破下去,總有一天會實現自主化的目標。而且隨著米國規則的持續作用,不止是光刻機和離子註入機,未來國內將會解決更多的“卡脖子”問題。

因為華為和米國之間的博弈向所有國產公司揭示瞭一個道理:隻有用技術強大自身,才不會被外界的壓力擊垮!

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寫在最後

綜上所述,目前國內的半導體產業正在朝著好的方向發展,除瞭技術穩步突破之外,關鍵設備也開始打破壟斷,這預示著中國芯片即將崛起。希望接下來國產公司能夠再接再厲,爭取帶來更多的好消息,讓中國芯的名字響徹世界!

對此,你們怎麼看呢?歡迎留言和轉發。

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